【摘 要】
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纺织、食品和染料工业中大量排放的染料废水严重损害水生生态系统和人类健康。迄今为止,各种染料降解技术研究备受关注,其中,光催化降解作为一种高效、清洁的方法已成为最具潜力的染料降解技术之一。近年来CeO2半导体因其独特的氧化还原性能已成为研究的热点。大量研究报道认为含氧半导体的氧空位在光催化反应中发挥着至关重要的作用,但影响CeO2光催化染料降解活性的主要因素仍有待确定。针对此现状,本文通过不同水热合
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纺织、食品和染料工业中大量排放的染料废水严重损害水生生态系统和人类健康。迄今为止,各种染料降解技术研究备受关注,其中,光催化降解作为一种高效、清洁的方法已成为最具潜力的染料降解技术之一。近年来CeO2半导体因其独特的氧化还原性能已成为研究的热点。大量研究报道认为含氧半导体的氧空位在光催化反应中发挥着至关重要的作用,但影响CeO2光催化染料降解活性的主要因素仍有待确定。针对此现状,本文通过不同水热合成温度、高温焙烧处理的方式制备不同形貌、比表面积、氧空位含量的CeO2,并通过X射线粉末衍射(XRD),扫描/透射电子显微镜(SEM/TEM),低温氮气吸脱附、紫外-可见漫反射(UV-vis)、荧光光谱(PL)对催化剂进行结构、形貌、比表面积、光学性能等表征,并通过拉曼测试(Raman)、X射线光电子能谱(XPS)对CeO2的氧空位进行定性及半定量分析。使用罗丹明B(RhB)水溶液的光催化降解为探针反应。研究结果表明,CeO2表面的氧空位含量是影响其光催化染料降解的主导因素。除此之外,为弥补CeO2弱可见吸收的缺点以进一步提高染料降解活性,本文利用纳米贵金属表面等离子共振效应(SPR)可吸收可见光的优势,制备了不同Au负载量的Au/CeO2,并探究其光催化染料降解性能,发现过量负载Au会降低CeO2载体的表面氧空位使得其活性降低。本文通过改变Au的负载方式,进一步探究Au/CeO2体系的光降解活性位,结果表明表面氧空位含量仍是影响Au/CeO2光催化染料降解的主导因素。本文对CeO2基体系在光催化染料降解性能的控制因素进行了深入系统的探究,为CeO2基催化剂在光催化染料降解反应中更科学有效的应用提供理论依据。
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