镁合金表面激光熔覆Al-Si基纳米SiC复合涂层的研究

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镁合金具有轻质高强、易加工、可回收性好等优点,因此,镁合金越来越多的应用在电子电器、汽车、航空航天等领域,然而由于镁合金的表面性能有待提高,如硬度较低,耐蚀性较差,这在一定的程度上制约了镁合金材料的广泛应用和快速发展。因此,提高镁合金材料表面的强度、硬度以及耐腐蚀等性能,成为镁合金材料研究的重点。本文采用激光熔覆技术在AZ31B镁合金表面制备了与基体结合良好,无气孔、裂纹等缺陷的A1-Si涂层、Al-Si+5%(?)内米SiC、Al-Si+10%纳米SiC三种涂层。对三种涂层的显微组织和物相进行了观察和分析,并对涂层的显微硬度及耐蚀性进行了测定。XRD分析结果表明,A1-Si熔覆层的物相主要有α-Mg.Mg2Si.Mg17A112. A13Mg2.A12Mg,显微组织主要由熔覆层上部的树枝晶、熔覆层中部呈线性排列的黑色相和熔覆层下部的花瓣状组织组成,涂层的最高显微硬度可达150HVo.2,腐蚀电位比基体提高了0.279V,腐蚀电流比基体降低了0.046A。通过失重法测得的涂层的腐蚀速率为0.158g/(cm2·h),较镁合金基体的腐蚀速率0.379g/(cm2·h)明显降低。在A1-Si涂层中加入纳米SiC后,涂层的组织和性能都发生了很大变化。A1-Si+5%纳米SiC涂层的物相主要由Mg2Si.Mg2C3.Mg17A112.A13.21Si0.47组成,熔覆层中部呈现大量十字架结构的黑色相,熔覆层下部的黑色相无明显特征结构,熔覆层最高硬度达216HVo.2,腐蚀电位比基体提高了0.054V,腐蚀电流比基体降低了0.081A,腐蚀速率有所降低;A1-Si+10%纳米SiC涂层的物相主要由Al、Mg、Mg17Al12、Mg2Si、Mg2C3、Al9Si组成,熔覆层下部出现了大量的具有八个花瓣的花瓣状结构,熔覆层最高硬度达215HV0.2,腐蚀电位比基体提高了0.098V,腐蚀电流比基体降低了0.072A,腐蚀速率有一定降低。
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