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金刚石薄膜具有一系列优异性能,使其在多种领域得到广泛的应用,但是常规CVD金刚石薄膜晶粒度较大,呈柱状生长,表面较粗糙,同时高硬度表面也给后续抛光处理带来很大困难,限制金刚石薄膜的推广应用。因此,改善常规金刚石薄膜的表面粗糙度和后续抛光技术成为了新的研究热点。本文通过制备工艺和后期对薄膜表面微修饰改善表面形貌,首先采用微波等离子体CVD法制备出金刚石薄膜,然后用高密度等离子体刻蚀设备对金刚石薄膜的表面进行了微刻蚀处理,最后通过AFM显微镜和Raman光谱对金刚石特性进行了表征,主要研究内容如