【摘 要】
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ZAO透明导电薄膜以其良好的导电性能、高的可见光区域透光率、廉价的成本等优点,有望取代目前产业化的ITO薄膜。本文采用均匀沉淀法、共沉淀法和机械球磨法三种方法制备ZAO粉体,通过冷等静压成型陶瓷靶材坯体,常压烧结工艺制备ZAO陶瓷靶材,最后通过射频磁控溅射工艺溅射陶瓷靶材制得ZAO透明导电薄膜,并将ZAO薄膜在氩气气氛下进行退火热处理。采用XRD、SEM、TEM、DTA、EDS、分光光度计和四探针
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ZAO透明导电薄膜以其良好的导电性能、高的可见光区域透光率、廉价的成本等优点,有望取代目前产业化的ITO薄膜。本文采用均匀沉淀法、共沉淀法和机械球磨法三种方法制备ZAO粉体,通过冷等静压成型陶瓷靶材坯体,常压烧结工艺制备ZAO陶瓷靶材,最后通过射频磁控溅射工艺溅射陶瓷靶材制得ZAO透明导电薄膜,并将ZAO薄膜在氩气气氛下进行退火热处理。采用XRD、SEM、TEM、DTA、EDS、分光光度计和四探针测试仪分析了粉体和陶瓷靶材的物相、形貌、成分以及薄膜的透光率和电阻率。论文主要获得以下成果:1.
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