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氮化铁材料因其优良的磁学性质、耐磨损、抗腐蚀、抗氧化等性能而倍受关注。氮化铁材料在磁记录媒介、磁头和材料涂层等领域有着广泛的应用前景。近年来,随着自旋电子学的发展,氮化铁材料作为自旋电子学器件的候选材料,正逐渐成为凝聚态物理学和材料科学领域的研究热点之一。本论文从具有复杂相成份的氮化铁材料中选择晶体结构简单、化学稳定性高、热稳定性好、高居里温度的铁磁性γ′–Fe_4N作为研究对象。为了得到单相的γ′–Fe_4N薄膜,采用反应磁控溅射法,通过改变氮气流量,在未加热的基底上制备了氮化铁薄膜,并对