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本论文采用阴极电弧离子镀技术在1Cr18Ni9Ti不锈钢基材上制备了TiAlN膜层,靶材为热压TiAl合金靶,Ti和Al的原子比为50/50.采用的阴极电弧沉积装置为俄罗斯制造的先进设备,具有一个大功率的气体蒸发源和两个金属蒸发源,因此具有Ar和N<,2>气体的离子轰击和辅助沉积功能.研究了沉积工艺参数如沉积时间、弧流强度、负偏压和气体离子源的加速电压和束流强度等对膜层的影响规律.采用气体离子源辅助沉积技术得到的膜层液体金属颗粒具有同加入磁过滤装置的一般电弧离子镀设备制备的膜层同样的数量级,说明气体离子源具有明显的细化金属颗粒的作用.