【摘 要】
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本文分别采用高纯五氧化二钒和高纯金属钒作为源和靶材，采用真空镀膜工艺，并通过正交试验设计优化了真空蒸发工艺和磁控溅射工艺制备氧化钒薄膜的实验过程，在实验中着重改变了对薄膜特性影响很大的几个工艺条件，如：功率、基片温度，O_2/Ar比例等。实验表明蒸发功率一方面影响其厚度，另一方面对薄膜的结构也有较大影响。我们采用不同的热处理条件对薄膜材料进行了热处理，通过对热处理后的薄膜分析表明，热处理工艺条件对
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本文分别采用高纯五氧化二钒和高纯金属钒作为源和靶材，采用真空镀膜工艺，并通过正交试验设计优化了真空蒸发工艺和磁控溅射工艺制备氧化钒薄膜的实验过程，在实验中着重改变了对薄膜特性影响很大的几个工艺条件，如：功率、基片温度，O_2/Ar比例等。实验表明蒸发功率一方面影响其厚度，另一方面对薄膜的结构也有较大影响。我们采用不同的热处理条件对薄膜材料进行了热处理，通过对热处理后的薄膜分析表明，热处理工艺条件对薄膜的性质影响也很大，对薄膜的XRD分析表明热处理后有结晶现象。 磁控溅射薄
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