基于自适应控制的光栅刻划机长效主动与被动复合隔振方法研究

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衍射光栅是光谱仪器中的核心部件,大面积高精度的衍射光栅在许多高精尖技术领域有着重要的应用价值。而用来制作大面积高精度刻划光栅的刻划机本身就是一种具有超高精度的设备,被为精密机械之王。光栅刻划机不仅自身结构复杂,其稳定运行对环境的要求极为苛刻,对其精度可造成影响的因素非常多,其中环境振动对光栅刻划机的稳定运行造成了不可忽视的影响,环境振动哪怕是很细微的振动都可能造成光栅刻划机的刻划精度,本文将主要从光栅刻划机基座隔振方面入手进行研究,主要完成的工作内容如下:(1)对光栅刻划机所处的环境进行调研,充分调
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