【摘 要】
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本文采用金相显微镜(OM)、X-射线衍射(XRD)、JSM-6301F型场发射扫描电镜(SEM)及能谱(EDAX)等分析手段,研究了两种单晶高温合金DD32(含铼)和DD32M(无铼)及其铝化物涂层的组织
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本文采用金相显微镜(OM)、X-射线衍射(XRD)、JSM-6301F型场发射扫描电镜(SEM)及能谱(EDAX)等分析手段,研究了两种单晶高温合金DD32(含铼)和DD32M(无铼)及其铝化物涂层的组织结构和高温氧化行为.主要内容如下:1.基体中的铼对铝化物涂层组织的影响采用低压气相沉积方法在镍基单晶高温合金DD32和DD32M基体上制备铝化物涂层.基体中加入Re,影响涂层外层Ni和Al含量.合金DD32铝化物涂层表面Al含量较高.2.单晶高温合金DD32和DD32M的高温氧化行为DD32合金在900℃和1000℃以及DD32M合金在1000℃时的恒温氧化动力学曲线大致分为两个阶段,氧化初期增重迅速,氧化动力学由NiO的形成和生长控制,基本上符合抛物线规律,随着氧化时间的延长,氧化增重变得十分缓慢,氧化动力学由α-Al<,2>O<,3>的形成和生长控制,基本上符合水平渐近线规律;3.单晶高温合金DD32和DD32M铝化物涂层的高温氧化行为DD32和DD32M合金渗铝涂层在900℃和1000℃氧化初期增重速率较快,氧化动力学受θ-Al<,2>O<,3>生长控制,随着氧化时间的延长,氧化增重速率变得缓慢,氧化动力学受α-Al<,2>O<,3>生长控制,两个阶段都基本遵循抛物线规律.
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