TiN/ZrN纳米多层膜的生长行为及力学性能研究

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纳米多层膜具有深刻的物理内涵和一些单层膜不具备的特殊性能,引起了人们的极大关注。本文采用了磁控溅射技术,从探讨不同沉积率下ZrN单层膜的生长规律入手,进而分别在ZrN单层膜生长呈(100)织构和(111)织构的沉积条件下,制备了TiN/ZrN纳米多层膜,其中TiN单层膜生长保持(100)织构,分析了TiN/ZrN纳米多层膜的结构及其力学性能,探讨了纳米多层膜的硬化机制。此外,我们还采用TaN界面层的方面,尝试改善TiN/ZrN多层膜的调制均匀性和生长相干性。研究结果表明:对于ZrN单层膜生
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