论文部分内容阅读
本文旨在利用超高真空离子束辅助沉积与射频磁控溅射技术在Si(100)及A12O3 (111)基底上设计合成TiB2/Si3N4和TiB2/c-BN纳米多层膜。并通过一系列分析测试技术表征薄膜的结构特征和机械性能。揭示多层膜体系的结构,性能以及工艺参数三者之间的相互关系,并寻求材料性能的改善和高温稳定性的提高。本文系统研究了纳米多层膜中的微观结构与硬度、弹性模量、残余应力等力学性能,摩擦系数等摩擦磨损性能,以及与调制比例、调制周期、退火温度、轰击能量等诸多因素之间的关系。利用TiB2和Si