Fe/Si多层膜的层间耦合与界面扩散

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【摘要】

：

早在上世纪九十年代初,人们就观察到Fe/Si多层膜的层间耦合现象。在接下来的二十年中,人们致力于其机理的研究。但直到现在,对于Fe/Si多层膜层间耦合机理的认识仍然存在较大的争论。本文在研究Fe/Si多层膜层间耦合的基础上,通过退火和掺杂,探讨了界面扩散对层间耦合的影响。采用磁控溅射的方法制备了中间层分别为P型、N型及本征Si的Fe/Si多层膜。测量这些样品的磁性质,观察到完全相同的层间耦合现象,

【作者】

：

倪经

【机构】

：

四川大学

【发表日期】

：

2004年05期

【关键词】

：

Fe/Si多层膜层间耦合界面扩散

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