21世纪高新技术的发展不仅对材料的化学组成提出一定的要求,而且对材料的形态有了严格规定。高纯、超细材料的研制、生产以及应用已成为现代高科技领域的重要组成部分。随着现代科学技术的不断发展,高纯超细二氧化硅除在电子行业与航天航空技术等方面广泛使用外,其在涂料、塑料、润滑剂、纳米生物材料等方面也使用很多,这使得高纯超细二氧化硅的制备工艺的研究与开发受到越来越广泛的关注。本论文在理论分析的基础上,采用高压碱浸法以及化学沉淀法,研究了高压碱浸过程中浸出温度、压力与时间,以及硅石粒度对硅石浸出率的影响。在高纯超细二氧化硅的制备过程中,以硅石的浸出液为原料,以硫酸等为沉淀剂,研究了酸浓度、滴定终点pH值、搅拌速度、超声波、陈化时间与温度、表面分散剂、不同种类的螯合剂对产品粒度及纯度的影响。此外还研究了酸种类对产品粒度、纯度以及形貌的影响。通过对化学沉淀反应过程中影响产品纯度和粒度分布的可能因素进行单因素实验研究,确定了硅石制取高纯超细二氧化硅过程中的最佳工艺条件。本实验使用ICP-AES、Variancary5000、SEM、TG-DTA、RISE-2002对产品性能进行了表征。实验结果表明,在本实验条件下,以冰乙酸为沉淀剂,可制得杂质总含量为0.0396%、平均粒径约400nnm的高纯超细二氧化硅产品；以硫酸为沉淀剂,可制得杂质总含量为0.0334%,平均粒径为28.35μm的高纯超细二氧化硅产品；以盐酸为沉淀剂,可制得杂质总含量为0.0462%,平均粒径为28.68μm的高纯超细二氧化硅产品。