氧化钨孔结构薄膜的制备及电致变色性能研究

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氧化钨是一种较为常用的无机电致变色材料,在近年来的发展中,氧化钨薄膜不仅仅在防眩晕后视镜、智能窗等方面有较为优异,还用于太阳能电池、氢能、传感器和亲疏水转变材料等方面。本文通过电沉积方法制备氧化钨薄膜,通过锂化法在其表面制备小孔结构,并用光谱及电化学的表征手段表征电致变色性能及扩散性能。制备得到了酸性钨酸钠溶液与过氧根配位的平衡态溶液,在稳定溶液中电沉积得到致密的氧化钨薄膜。在氧化钨溶胶中电沉积制备得到疏松结构的薄膜,综合以上方法控制电沉积条件,制备双层孔结构的薄膜。对制备得到的薄膜进行了元素分析和XRD测试,发现得到的双层结构WO3薄膜结晶程度不同,这种区别更有利于薄膜的电致变色。在光谱分析中,运用不同介质、不同电流密度,通过恒电流着色对制备薄膜的着色过程进行了研究。以色心模型为基础,运用高斯方程拟合光谱数据,得到两种不同的色心在电致变色过程中的产生和变化。在研究对比中,发现电致变色、光致变色的理论在很大程度上存在通用性,嵌入离子氢和锂存在共性,在电解质的选择中水和有机介质存在相通性。采用电化学循环伏安法和电位弛豫法计算了薄膜的扩散系数。通过不同扫速下的循环伏安法,解释了薄膜两个脱色峰在扫速提高的过程中出现及重叠的现象。进一步运用锂化法,在制备得到的薄膜上,形成表面的微裂纹或者小孔结构,使薄膜的表面积和扩散性能得到了提高。通过控制不同电流下的锂化条件,在完整程度较高的条件下制备得到扩散性能更为优异的薄膜。
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