【摘 要】
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该论文将分别掺杂3mol%YO、10mol%CeO氧化剂的ZrO置于不同气氛中(Air、Ar、H、N、O)进行处理,并用正电子湮没技术(PAT)、X射线光电子能谱分析(XPS)实验研究了气氛对ZrO缺陷结
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该论文将分别掺杂3mol%Y<,2>O<,3>、10mol%CeO<,2>氧化剂的ZrO<,2>置于不同气氛中(Air、Ar、H<,2>、N<,2>、O<,2>)进行处理,并用正电子湮没技术(PAT)、X射线光电子能谱分析(XPS)实验研究了气氛对ZrO<,2>缺陷结构和化学价态的影响.应用TEM in-situ高温原位动态观察了10mol%CeO<,2>掺杂的ZrO<,2>在升温、保温和降温过程中发生的相变过程.PAT研究发现:不同气氛中处理的样品的正电子湮没寿命及相对强度不同,反映了缺陷类型和数量的不同.不同稳定剂对相同处理条件处理后形成的缺陷类型也有影响.XPS研究气氛对掺杂不同稳定剂的ZrO<,2>的化学结合状态时发现,10Ce-ZrO<,2>在各种气氛处理后,Ce谱峰形状不同,说明Ce的化学环境发生了改变,即产生了位学位移.
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