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Bi_(1.5)Zn_(1.0)Nb_(1.5)O_7(BZN)是一种立方烧绿石结构的微波介质材料,由于其具有较高的介电常数,极低的损耗,并且介电常数可通过外加电场来调节(即介电可调性能),使得它在电可调微波集成器件上有着广阔的应用前景,正成为国际上研究的热点。本文采用磁控溅射法制备BZN薄膜,系统地研究了溅射法制备BZN薄膜的工艺参数,以及不同制备条件对薄膜组分、结构及性能的影响,并对BZN薄膜的介电性能、可调性作了较全面的描述。本文的工作重点采用在靶材中过量Zn的方法,以补偿薄膜制备过程中Zn离