大气压等离子体微射流是特征尺度在1mm以下、在常压和开放空间中以射流形式产生的微等离子体,它除了具有常规尺寸(数mm～数cm)大气压等离子体射流的活性粒子密度高、温度低、结构简单、操作方便、可对三维复杂样品进行处理等优点外,由于等离子体被限制在更小的区域,可以直接对样品中微小区域进行处理,或对单个细胞进行处理,因此其在微机电系统(MEMS)和生物医学等领域中有巨大的应用潜力。但单根微射流处理效率低,采用多个微射流组成的微射流阵列可以大大提高处理效率。为了能理解微射流及其阵列的产生机理,并通过优化装置和工作参数的调控,使其具有更好的处理效果,因此对于微射流及其阵列的放电特性研究尤为重要。但目前的研究主要集中在常规尺寸的大气压等离子体射流及其阵列,微射流及微射流阵列的放电特性研究却非常少。基于以上研究背景,本文以本课题组提出的大气压等离子体微射流及阵列产生装置为基础,研究不同放电参数对微射流和微射流阵列放电特性的影响,为之后的具体应用提供重要的指导与帮助。论文的主要内容如下:选用COMSOL仿真软件对微射流产生装置进行有限元分析仿真,研究分析不同放电参数对于等离子体微射流的影响。并结合实际情况,优化大气压等离子体微射流产生装置,为后续实验开展提供了优良的基础。采用高速纹影摄影装置对等离子体微射流和微射流阵列进行流场分析。分析放电电压对于微射流的流场特性的影响;分析气体流速和激励电压对微射流阵列的空间均匀性的影响。利用微射流和微射流阵列对光刻胶进行刻蚀实验,研究氧气含量、电压幅值、样品间距等不同的放电参数和工作条件对于刻蚀孔的大小、深度、形貌和表面质量的影响,为微射流及其阵列的实际应用打下基础。