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该文用强流脉冲离子束(HIPIB)方法,室温时在玻璃表面成功制备了锡掺杂氧化铟(ITO)薄膜.通过引入一维热力真空扩散模式对二次等离子体的温度、密度、扩散速率等工艺参数进行计算.并利用椭圆偏振测厚仪、SEM附带的能谱仪、X射线衍射仪、分光光度计、四探针法、原子力显微镜(AFM)等手段和方法分别对薄膜的厚度、化学组成、结构、可见光透过率、电性能及玻璃表面形貌等特征进行了分析.