传统光学成像始终受限于衍射极限，导致光学成像分辨率只有入射光波长的二分之一。衍射极限的本质在于携带物体精细结构的高频信息具有倏逝波的行为，该倏逝波在传播过程中随传播距离的增加呈指数形式衰减，无法参与光学成像。近几年来，为了实现超衍射光学成像，各种突破衍射极限的手段相继被提出。随着基于表面等离子体的亚波长光学的迅速发展，为实验上实现超衍射光学成像提供了重要的理论基础。本学位论文基于表面等离子体波的特殊光学性质，利用分离式表面等离子体超分辨光刻器件，从实验上实现周期为200nm，线宽为100nm的超分辨光刻成像。论文的主要内容和结果如下：1.简单分析衍射极限产生的原因，以及介绍传统方式下提高光学系统成像分辨率的方法。基于表面等离子体超衍射成像，介绍表面等离子体的原理和几种激发表面等离子体的方式。然后介绍利用金属平板超透镜结构突破衍射极限的研究状况，最后详细介绍常用于掩模制作的激光干涉方法。2.薄膜材料对超衍射光刻成像质量有重要的影响，本论文对制备高品质的薄膜材料进行了探索。首先简单介绍磁控溅射和电子束蒸发镀膜的工作原理；然后给出掩模材料—Cr薄膜（厚为40nm）、超透镜银膜层（厚为20nm）和反射银膜层（厚为50nm）的制备方法、优化的工艺参数；利用台阶仪、原子力显微镜（AFM）和扫描电子显微镜（SEM）等表征手段检测膜层厚度、形貌等性质。3.基于分离式表面等离子体超分辨光刻器件，本论文利用激光干涉光刻的方式制作线宽为100nm的Cr掩模光栅图形；用PMMA介质材料填平光栅掩模，通过多次旋涂和反应离子束刻蚀（RIE）方法，得到厚度为35nm的PMMA介质层；用波长365nm的I线汞灯光源，光栅掩模进行SP光刻，实现亚波长特征尺寸图形的光学成像。