【摘 要】
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本论文通过结合二元光学、多光束激光干涉光刻和电化学刻蚀技术,充分利用其自身的优势,采用经典电磁场理论,依据介电常数和折射率的关系,设计制作一种折射率在一定区域内渐变
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本论文通过结合二元光学、多光束激光干涉光刻和电化学刻蚀技术,充分利用其自身的优势,采用经典电磁场理论,依据介电常数和折射率的关系,设计制作一种折射率在一定区域内渐变的结构,并摸索出一种适于磷化铟梯度渐变结构制备的新方法,使其对光具有较高会聚或发散功能的磷化铟红外器件。介绍了光刻加工技术与二元光学,根据磷化铟材料的红外特性,从理论上研究了采用光刻和电化学刻蚀磷化铟控制其折射率的方案。基于典型光学元件对波面的作用,设计了对光具有会聚、发散等功能的磷化铟器件。搭建多光束激光干涉光刻与电化学刻蚀技术制作磷化铟功能透镜的实验系统,用Matlab编程模拟激光干涉图案并进行激光直写曝光与电化学刻蚀制备磷化铟梯度渐变结构功能透镜,对其结构测试光谱特性。
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