在面向未来的技术分析需求背景下,本文从新的视角对技术机会分析作了概念界定和理论探讨,并集中考察和研究了基于专利文献的分析方法在技术机会分析过程中的应用。本文提出,技术机会分析是对特定单一技术领域的发展机会进行监测、理解和判断的一类技术预测方法。技术机会分析不仅是技术预测的子类,也是其他技术未来分析活动的组成部分或应用环节。专利分析作为科技情报研究中的一类重要方法,也为挖掘技术的发展机会提供了丰富、有效的手段。本文的研究重点是专利技术机会分析方法框架的设计。首先,借鉴9-Windows创造性思维模型的思想,提出了一个引导技术机会分析的概念模型。在纵向上包括技术系统、子系统和超系统三个层次,横向上分为发展趋势、发展潜力和发展方向三个方面,根据该模型可以从不同角度对技术的发展特征进行系统化研究。然后,在概念模型基础上,按照从系统层、子系统层到超系统层的分析顺序,设计了三类方法分别对应三个层次的特殊研究内容,形成阶梯状方法模型。同时,筛选、发掘和比较全面地归纳了适于发现技术机会的专利分析方法,揭示了它们的含义、作用和使用过程,结合方法模型构建了一个用于指导实际分析过程的动态、分层、可扩展方法框架。系统层包括9种主要反映技术发展趋势的第一类方法;子系统层包含了第一类方法以及15种考察技术结构,反映发展方向的第二类方法;超系统层包含第一类和第二类方法,以及8种考察技术与科学、产业等的交互,反映发展潜力的第三类方法。最后,以TFT-LCD中的广视角技术为对象,根据所构建框架集成多个层面的方法进行了实证。在系统层选取了技术生命周期分析法和TRIZ技术成熟度预测,子系统层选取了IPC分类关联、主题关联与形态分析,超系统层选取了科学关联度、专利与产业分类法结合分析等方法,比较全面、深入地揭示了广视角技术的发展现状和潜在机会,可结合专家意见和其他方法为技术决策提供参考。实验结果验证了基于专利文献进行技术机会分析的合理性和可行性。在实验中,重点对TRIZ技术成熟度预测和专利形态分析进行了研究,引入调整被引次数指标和词频分析手段,加速了成熟度预测过程,从可行性和重要性两个方面设计了未来可能形态选择的分析方案。