原位掺杂均匀沉淀法制备高稳定性/高催化活性纳米TiO<,2>粉体

来源 :东华大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:MENTAL2010
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纳米TiO<,2>粉体是目前纳米材料领域的研究热点,目前对纳米粉体的表面处理常采用后处理工艺.该论文旨在采用原位掺杂法即在合成过程中完成表面处理工艺,制备既具有高分散性又具有高催化活性的纳米粉体,并研究了粉体的光催化、聚合催化活性.首先分别用TiCl<,4>水解法和偏钛酸均匀沉淀法制备纳米TiO<,2>粉体,通过DSC、XRD和TEM测试表征制备的粉体,并进行了比较.在TiCl<,4>水解法制备过程中讨论了水解温度、[Ti<4+>]/[SO<,4><2->]浓度比、煅烧温度等对粉体的表面形貌、粒径以及结晶性能的影响.均匀沉淀法制备纳米TiO<,2>粉体过程中,采用尿素作为均匀沉淀剂,讨论了反应时间、尿素/H<,2>TiO<,3>(mol比)对产物收率和粒径的影响.由于TiCl<,4>极易水解,操作复杂,反应过程不易控制,而偏钛酸均匀沉淀法制备纳米TiO<,2>原料价廉,反应简单易控,且粒度分布均匀.因而,该论文选用偏钛酸均匀沉淀法制备纳米TiO<,2>粉体,并在此基础上进行掺杂处理研究.由于纳米TiO<,2>极易团聚,影响其稳定性和使用效果,必须对其进行表面处理.该文为改善粉体的分散性,同时提高其反应活性,在反应过程中对纳米TiO<,2>进行掺杂处理.
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本文首先对多晶硅薄膜的制备方法、应用前景进行了综述,同时对金属诱导非晶态硅晶化制备多晶硅的研究现状以及诱导机理与应用等进行了系统概述。 本研究中,成功设计了单反应室双沉积法复合镀膜设备,即在同一反应室内同时有两个沉积系统:真空热蒸发与等离子化学气相沉积。利用该设备在不破坏真空的条件下成功制得了Al/a-Si:H双层复合薄膜与a-Si:H/Al/a-Si:H三层复合薄膜。并通过XRD、Rama