外加偏置电场对薄膜的激光损伤影响研究

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类金刚石薄膜(DLC)是一种以sp3杂化键和sp2杂化键的形式结合生成的亚稳态材料,兼具了金刚石和石墨的优良特性,具有高硬度、高弹性模量,低摩擦因数、耐磨损以及良好的真空摩擦的特性。DLC薄膜在红外区有很高的透过率,应用于光学透镜的保护膜、军用车辆和飞行器的红外窗口保护膜。光学薄膜制造及实际应用方面DLC薄膜突破了大面积、高均匀性、高透射比、抗激光兼容的红外减反射膜制备等关键技术。但DLC薄膜激光损伤阈值(LIDT)却非常低,该特性严重制约了薄膜在红外激光系统中的应用。本论文针对DLC薄膜的特性并根据传统的薄膜抗激光损伤方法,提出了一种新的通过外加偏置电场提高DLC薄膜损伤阈值的方法。设计出抗激光损伤阈值的总体方案,搭建外加偏置电场的薄膜损伤测试装置。采用1-on-1零几率损伤法,对比无外加电场和有外加电场的薄膜损伤阈值,再对外加电场不断增加薄膜损伤阈值的改变。最终对测试结果进行总结分析。实验结果显示:在相同激光能量下,DLC薄膜在加外加偏置电场后,损伤形貌有明显的改善,对比无外加电压和外加100v电压薄膜的LIDT从0.57J/cm2提高0.64J/cm2。在电场不断增加情况下薄膜的损失阈值也不断增加,但当增加到一定程度损伤阈值会趋于平稳电场再增加损伤阈值也不会改变。外加电压增加到700v薄膜的LIDT增加到1.33J/cm2电压增到999v薄膜的LIDT不再发生变化。根据物理特性进行了机理分析,在电场作用下激光在薄膜中产生的光生电子发生了快速漂移,有效的减少了激光辐照区域产生的热能量,减缓了薄膜的石墨化。
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