场发射显示器(Field Emission Display,FED)具有轻薄、功耗小、图象质量好等优越特性，被认为是下一代理想的平板显示器。 为了解决了印刷型碳纳米管冷阴极FED器件制作过程中阴极的金属电极容易被氧化进而失效的问题，本论文采用透明氧化铟锡(ITO)薄膜作为电极材料取代传统的金属电极。采用磁控溅射和高温退火工艺相结合制备ITO薄膜，研究了直流溅射工艺参数和退火工艺参数对ITO薄膜电学特性和光学特性的影响，确定了溅射功率、沉积时间、退火温度和退火时间等关键工艺参数，制备出了方块电阻为40 Ω/□、可见光(380～780 nm)透过率大于80％的ITO薄膜。采用剥离工艺制作了用于印刷型碳纳米管冷阴极FED器件的ITO薄膜电极。研究了ITO薄膜电极在印刷型碳纳米管冷阴极FED器件制作过程中的导电性能的变化，结果表明ITO薄膜电极在器件制作过程中导电性能稳定，能够代替在FED器件制作过程中易被氧化的金属电极。制备的ITO薄膜电极被成功应用于160×120点阵5英寸二极结构印刷型碳纳米管冷阴极FED器件，器件实现了视频显示。