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磁流变抛光技术是一种确定性光学表面成形方法,具有收敛效率高、亚表面损伤小、加工精度高等众多优点。经过多年研究,国内特别是国防科学技术大学的磁流变抛光技术日益成熟,已经实现对中大口径和低陡度光学元件的高效加工。但是,由于抛光轮尺寸与所能加工工件的口径、曲率半径、面形误差特征尺寸等直接相关,因此在面对小口径、高陡度或具有小的面形误差特征尺寸的光学元件时,抛光轮的直径需要控制到50mm甚至更小。这就给抛光装置磁场与传动结构设计、磁流变液的循环稳定控制以及修形工艺等带来了更多新的难题。本文基于研究室现有的大