基于回流CVD技术的多层石墨烯生长研究

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魔角石墨烯同时具备绝缘相与超导相的特殊电学性质被发现以来,转角双层石墨烯与多层石墨烯的电学性能的研究成为了科研领域的热点。目前,转角双层石墨烯与多层石墨烯都还没有一个很好的制备方法,这极大的限制了转角双层石墨烯与多层石墨烯的理论与科学研究。因此,化学气相沉积法制备转角双层石墨烯以及多层石墨烯有着重要的意义。本文主要采用了控制CVD系统生长石墨烯时反应腔气压、生长温度以及氢气与甲烷的流量比的参数对转角双层石墨烯与多层石墨烯的生长工艺进行了研究,主要发现了在提高生长气压时可以打破石墨烯生长的自限制作用生长出“玲珑宝塔”状多层石墨烯,以及调控石墨烯生长时反应腔温度可以生长出堆垛角度分布不同的转角双层石墨烯。本文的研究有着重要的意义,为转角双层石墨烯与多层石墨烯的光电性质研究提供了优秀的样品制备手段,对转角双层石墨烯与多层石墨烯的理论与实验研究做出了实质性的推进。
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