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随着科技的不断进步,人类已经步入信息时代,微电子器件已经应用到人类生活的各个方面。但是科技的发展同时也带来了新问题,由于微电子器件的密度不断提高、器件尺寸不断减小,器件互连线之间的阻容耦合不断增大,从而使信号传输延时增强、功耗增大、噪声增大。为解决器件密度提高、器件尺寸减小带来的问题,微电子器件中的低介电常数材料(低k材料)和超低k材料( k < 2)研究得到高度关注。作为微电子器件中最有希望获得应用的候选材料,SiCOH低k薄膜材料成为低k材料研究的重点,其中SiCOH低k薄膜材料的刻蚀是