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如今有关D-π-A型共轭结构的半花菁荧光染料的报道比较多,主要是由于这类染料分子具有平面性好、荧光性能优良等优点。但是,目前多数半花菁荧光染料的耐光牢度难以满足市场中纺织品服用要求。本论文实验内容和结论如下:1)采用两步法合成了四种D-π-A型半花菁荧光染料,分别是反式-4-[对-(N,N-二乙基)-氨基-苯乙烯基]-N-乙基吡啶溴化盐(DEASPBr)、反式-2-[对-(N,N-二乙基)-氨基-苯乙烯基]-N-乙基喹啉溴化盐(DEASQBr)、1,3,3-三甲基-反式-2-[对-(N,N-二乙基)-氨基-苯乙烯基]-N-甲基吲哚啉氯化盐(DEASICl)和反式-4-[对-(N,N-二乙基)-氨基-苯乙烯基]-N-丙胺基吡啶氯化盐(DEASPCl-N),并通过傅立叶红外光谱、核磁共振谱图、热分析等方法对它们的结构进行表征。2)采用阳离子染料染色工艺,将四种半花菁染料DEASPBr、DEASQBr、DEASICl和DEASPCl-N应用于腈纶织物染色,研究它们的染色性能和荧光性能。这类染料上染腈纶织物的吸附等温线基本属于Langmuir型吸附;随着荧光染料结构中氮杂环吸电子性能的降低,上染速率逐渐变缓,有下降的趋势;随着荧光染料结构中氮杂环吸电子性能的提高,其染色腈纶织物的最大反射率和荧光强度逐渐下降。在四种染料中DEASICl的氮杂环碱性相对较弱,杂环上电子云密度较低,其染色腈纶织物日晒牢度最好,在4级以上。3)采用酸性染料染色工艺,将半花菁染料DEASPCl-N应用于真丝和锦纶。染色锦纶的最佳工艺:中性条件(p H=7)、95℃、1%染料浓度和不添加中性电解质;染色真丝的最佳工艺:中性条件、85℃、1%染料浓度和不添加中性电解质。4)通过乳液聚合,将半花菁荧光染料反式-4-[对-(N,N-二羟乙基)-氨基-苯乙烯基]-N-甲基吡啶溴化盐(DHEASPBr-C2)接枝到聚氨酯主链上,合成出水性聚氨酯染料WPU-C2,并将之应用于腈纶和棉织物。相对于荧光染料DHEASPBr-C2水溶液来说,水溶液中WPU-C2的紫外吸收峰发生红移,荧光发射峰发生蓝移;增强溶剂的极性,WPU-C2溶液的紫外吸收峰发生明显的蓝移,荧光发射峰发生红移,溶液荧光强度下降。采用传统的阳离子染色工艺将WPU-C2应用在腈纶上,由于WPU-C2分子量较大,不能扩散到纤维内部,织物K/S值较低。采用轧染工艺将WPU-C2应用于棉织物,在焙烘工艺时,异氰酸酯基与棉织物上的羟基形成共价键,牢牢地吸附在织物表面,棉织物的反射率较高,但织物的表观色深较低。