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减反射涂层能有效降低基材对入射光线的反射率,提高光的利用效率,因此在能源、光学成像以及军事隐形等领域具有广泛的应用前景。现有的减反射涂层多采用“蚀刻”、选择性溶剂溶解以及无机粒子堆积等方法制备。这些方法存在制备效率低、对基材选择性高以及涂层结构和性能不稳定等不足。论文提出和研究了一种基于交联结构聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)与聚丙烯酸丁酯(PBA)共混胶乳制备减反射涂层的新方法。混合胶乳烘焙成膜时,交联结构的PMMA胶乳仍保持球状形貌,借助成膜的PBA胶乳粘附于基材表面,共同组成减反射涂层。涂层内的PMMA粒子间填充空气,使涂层的折光指数大大降低,从而可有效减少基材对光的反射率。就此设想,论文第二章采用乳液聚合技术,通过对乳化剂组成及浓度的调控等制备了不同粒径的PMMA胶乳和PBA胶乳。之后,第三章探究了混合胶乳中PMMA与PBA质量比、PBA胶乳粒径以及混合胶乳涂层液含固量对涂层减反射性能的影响;考察了已有涂层减反射理论对混合胶乳涂层的适用性,并提出了混合胶乳减反射涂层的新模型;进而在第四章和第五章探究了PMMA乳胶粒粒径对涂层减反射性能的影响,并考察了涂层的结构稳定性。研究表明:1.混合胶乳中PMMA与PBA质量比对涂层减反射性能的影响:减反射效率随PMMA:PBA质量比的增高而增大,当质量比高于97:3后,不再明显改变;2.涂层的减反射性能受PBA(DPBA)和PMMA(DPMMA)粒径的共同影响:(1)随DPBA的减小,涂层内PMMA粒子间距减小,入射光的散射降低,当DPBA<85nm(=400/(1.49π))时,可见光区小波长处散射光强明显减小;(2)增大涂层液含固量,涂层内PMMA粒子面密度增大,直至粒子层叠;PMMA单层排列时,其对基材表面的最大覆盖率Smax=78.54%,基于有效介质理论得到的涂层折光指数为1.23,最大透射率处的波长λmax=4*1.23*DPMMA;(3)当PMMA对基材表面的覆盖率S小于78.54%时,虽然涂层的折光指数及最大透射率数值减小,但λmax不变,仍等于4*1.23*DPMMA,表明涂层的减反射行为不再遵循Fresnel均质结构减反射涂层模型;(4)提出S小于78.54%时混合胶乳涂层减反射行为的新模型为:增透率等于最大增透率与S/Smax的乘积,即ΔT/ΔTmax=S/Smax。(5)混合胶乳涂层的结构及增透稳定性高,可耐20次180°弯折;3.论文还研究了两种粒径PMMA与PBA共混胶乳涂层的减反射行为。其中,DPBA=55nm,DPMMA,B=134nm,DPMMA,Sm分别为:54nm、84nm和112nm,研究表明:(1)涂层的增透曲线兼具PMMA,B与PMMA,Sm的增透特性,但仅当DPMMA,B与DPMMA,Sm相近时(DPMMA,B=134nm,DPMMA,Sm=112nm),增透曲线才可由PMMA,B和PMMA,Sm的曲线加和得到;(2)随着PMMA,B与PMMA,Sm个数比NB/Sm的增大,在较小NB/Sm时(<1),涂层的λmax已完全由DPMMA,B决定。