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本实验以水稻(Oryza sativa L)为材料,分析了CK、Cd、Cd+Zn、Cd+Zn+AT(CAT抑制剂,氨基三唑)和Cd+Zn+DMTU(H202清除剂,二甲基硫脲)5种处理条件下,水稻根系生长和基因表达的情况。结果显示,单一AT、Cd+Zn和Cd+Zn+AT3种处理均促进根系的生长;相反,单一DMTU和Cd+ Zn+DMTU显著抑制了根系的生长。除AT处理外,根系的生长变化与H202含量的变化趋势基本一致,表明H202对根系生长有明显的调节作用。各种处理中伊文思蓝与H202染色深浅及部位