【摘 要】
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本论文主要进行了核孔膜的蚀刻和紫外光辐照效应研究,以及在核孔膜模板内进行Cu、Co金属纳米线阵列的制备研究.在UNILAC(GSI,Darmstadt)加速器上真空和室温条件下对30 μm厚
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本论文主要进行了核孔膜的蚀刻和紫外光辐照效应研究,以及在核孔膜模板内进行Cu、Co金属纳米线阵列的制备研究.在UNILAC(GSI,Darmstadt)加速器上真空和室温条件下对30 μm厚的聚碳酸酯(PC)薄膜进行快重离子辐照,照射离子为11.4 MeV/u的Au离子,辐照剂量在1 ion/cm<2>~3×10<9>ions/cm<2>之间.重离子辐照导致在PC中产生潜径迹,通过化学蚀刻的方法将潜径迹放大而形成孔道.蚀刻速率与蚀刻温度、蚀刻液浓度、紫外光辐照敏化等参数密切相关.利用PC核孔膜作为模板用电化学沉积方法制备出了金属纳米线阵列.用磁控溅射的方法在PC膜模板的一面沉积一层Pt金属薄膜在电沉积过程中用作阴极.在自制的电沉积系统中用直流沉积的方法在PC核孔膜模板中成功制备出了Cu和Co金属纳米线,并运用SEM、XRD、VSM等手段对纳米线进行分析.
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