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在基片下放置一块永磁铁,在溅射时,该外加磁场将对溅射空间的等离子体产生影响。利用这种方法,我们可以研究外加磁场对溅射粒子运动以及薄膜沉积的影响。研究中发现,在这种实验装置下,所沉积的薄膜的表面宏观形貌呈现规则的几何图形特征:膜的中央有一圆斑,而在圆斑的外围有规则分布的环。而且这一中央圆斑的半径随着靶材和基片在磁铁上方的高度而变化。进一步,此种装置制备的薄膜与磁控溅射制备的薄膜相比,其结晶明显更好。在薄膜制备过程中,等离子区的辉光形貌也发生了明显的变化,对于一定的输入功率其自偏压较磁控溅射时有很大的降