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以大规模集成电路光掩膜版透明缺陷维修为应用背景,以六羰基铬金属羰基配合物为前驱体,采用激光化学气相沉积方法(LCVD)制备了薄膜,采用扫描电镜、原子力显微镜、X射线光电子能谱方法对LCVD薄膜的表面形貌、化学成分、物相组成进行了表征,对薄膜生长机理和物相形成机理进行了分析。结果表明,在适当的激光功率和作用时间下,可以获得连续、均匀、致密的LCVD薄膜,其表面和内部质量良好,表面粗糙度与PVD薄膜相近。LCVD薄膜通过反应、吸附、凝聚、成核、扩散、合并长大形成,由10微米以下的不规则团簇状颗