近几年,低温等离子体放电在工业中的应用有了很大的发展。这种技术特别在微电子器件加工和各种功能膜的沉积方面得到了广泛的应用。在工业应用中,对等离子体加工过程的机理了解不够,大多数过程的机理图象还不够清晰、完整,且受加工工艺有关的因素多,参数范围大,过程复杂,因此缺乏有效的监测与调节手段,造成工艺过程重复性差,产品质量不稳定,产量低或效率不高。这主要是由于低温等离子体是由多种粒子组成的复杂体系,其内部及等离子体与固体表面存在多种物理化学过程。它易受外界电磁场的影响,又受内部感应场的作用,内部粒子间的碰撞或散射又不断影响内部集体的自洽场作用。所以等离子体比非电离气体复杂得多,至今仍有许多相关的内部机制未被完全了解,我们很有必要对等离子体中各种物理参数做详细的研究。本论文对低温等离子体放电的研究中,主要做了以下几方面的工作:1、查阅国内外资料文献,明确研究目的,对可采用的方案进行充分的调研和分析。2、从实际需求出发,根据气体放电的基本原理,对采用流体模型数值模拟低温等离子体放电的过程进行了数值分析论证。流体模型分析低温等离子体放电过程既解决了自洽问题,也考虑到了带电粒子的非平衡问题,能够反应出等离子体的主要宏观性质,是一种简单快捷的分析方法。3、分别用FORTRAN语言编程、气体放电软件OOPIC数值模拟了射频电感耦合、电容耦合等离子体放电过程,分析了放电中不同结构和放电气压对等离子体密度等重要参数的影响。这样就为等离子体工业应用的实验研究和生产提供了理论依据,从而在了解物理过程的基础上,找到合适的参数范围,可以有效的对其监测与调节,提高产品效率和质量。