第一章对单分子检测的研究现状及其发展趋势进行了综述。包括单分子检测的概况、所用的主要检测技术、方法，以及单分子检测过程中的技术关键、单分子的证明、荧光探针等内容。重点介绍了全内反射荧光显微术的成像原理及单分子检测的应用前景等。共引用文献79篇。第二章研究了R6G在ITO工作电极上的吸附特性。我们制备了ITO工作电极，对吸附的最佳条件进行了研究，并且讨论了R6G在ITO工作电极上的稳定性。在0.20 mol／L的KCl（pH 6.5）缓冲溶液中，R6G在ITO电极上有一灵敏的吸附还原峰，峰电位在-0.725 V（vs．Ag／AgCl），峰电流与R6G浓度在2.0×10^-7-8.0×10^-10mol／L范围内与峰电流呈良好的线性关系。相关系数0.998，检测下限为4.0×10¹⁰ mol／L。第三章把电化学吸附伏安和全内反射荧光显微术（TIRFM）相结合，建立了测定R6G单分子的新方法。沿用第二章电化学吸附中的富集条件，重点讨论了在单分子成像中TIRFM的曝光时间、功率的选择，另外还讨论了缓冲溶液的过滤、漂白、ITO电极的漂白等条件。选择曝光时间100 ms、激光功率9 mw，每次实验前把KCl底液用孔径为0.22μm的微孔滤膜过滤两遍，把KCl底液和ITO工作电极在紫外灯下漂白24 h，有效地降低了杂质荧光。然后搅拌富集120 s，静止30 s，取出电极，在TIRFM下观察并用EMCCD记录罗丹明6G分子。用此种方法成功的测定了R6G单分子，并且单分子的个数和R6G的浓度在5.0×10^-12-5.0×10^-13 mol／L和2.0×10^-13-5.0×10^-15 mol／L范围内成线性关系，检测下限达到了5.0×10^-15 mol／L。该方法首次将电化学吸附和全内反射荧光显微术结合达到对生物单分子的成功测定。第四章采用PDMS芯片制作工艺、利用ITO膜厚度结合化学刻蚀技术，提出了一种新的、有效方便的纳米通道制作技术。制作思路是：PDMS作为通道的上层，ITO玻璃作为通道的下层；为减小阻力，便于溶液流动，设计成两端是微米，中间是纳米的形状。微米通道部分按设计的通道空间由浇铸的PDMS与底层对接构成；中间纳米部分是把用于纳米通道部分的ITO层刻蚀掉，利用ITO的膜厚形成，最后对通道进行改性，这样就制作好了所要的微—纳米通道。为此我们首先用Adobe Illustrator 8.0软件设计通道图形，然后通过高分辨率激光照排机在照相底片上制得光刻掩模。用商品匀胶铬板表面的Cr版光胶层作为保护层，然后将掩膜与匀胶铬版贴紧，将未掩盖部分曝光，显影，刻蚀液中刻蚀出微米通道模板负片，浇铸上PDMS；纳米区段用刻蚀剂将纳米厚度的ITO膜刻蚀掉，最后PDMS与ITO玻璃板对接制得。此通道两端是微米，中间是纳米。制作该通道的目的是利用分子流经通道时，在纳米区段进行单分子检测。