脉冲激光沉积法制备纳米功能薄膜的形膜条件及其性能研究

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【摘要】

：

本工作采用脉冲激光沉积法(PLD)制备出纳米金刚石薄膜(NCD)和类金刚石薄膜(DLC),初步研究了薄膜沉积时的参数:衬底温度、激光能量、气体压强等对薄膜生长的影响,并分析了纳米金刚石薄膜的生长机理。利用高能脉冲激光(波长532nm,脉冲宽度10ns,重复频率1Hz或5Hz,单脉冲激光能量100mJ/p～200mJ/p)轰击高纯石墨靶,薄膜直接沉积在三氧化二铝(α-Al2O3)和单晶硅衬底上。利用

【作者】

：

欧阳钢

【机构】

：

湘潭大学

【发表日期】

：

2004年05期

【关键词】

：

脉冲激光沉积技术纳米金刚石薄膜类金刚石薄膜性能

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