【摘 要】
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通过程序升温控制的ＭｏＯ３与ＮＨ３的Ｔｏｐｏｔａｃｔｉｃ反应，合成出钝化后比表面达１４０ｍ２／ｇ的γ－Ｍｏ２Ｎ。研究发现ＮＨ３空速、升温速率、前身态ＭｏＯ３粒度等对高比表面γ－Ｍｏ２Ｎ的形成影响很大。γ－Ｍｏ２Ｎ的比表面与孔径分布呈一定的规律性变化。ＸＲＤ测试
【机 构】
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中国科学院大连化学物理研究所催化基础国家重点实验室;
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通过程序升温控制的ＭｏＯ３与ＮＨ３的Ｔｏｐｏｔａｃｔｉｃ反应，合成出钝化后比表面达１４０ｍ２／ｇ的γ－Ｍｏ２Ｎ。研究发现ＮＨ３空速、升温速率、前身态ＭｏＯ３粒度等对高比表面γ－Ｍｏ２Ｎ的形成影响很大。γ－Ｍｏ２Ｎ的比表面与孔径分布呈一定的规律性变化。ＸＲＤ测试结果表明高比表面γ－Ｍｏ２Ｎ与低比表面γ－Ｍｏ２Ｎ的衍射峰强度有很大差异。同时文中对ＭｏＯ３的氮化过程进行了探讨，结果表明ＭｏＯ３在７７３Ｋ时已生成高比表面的γ－Ｍｏ２Ｎ，比文献报道的合成温度低２００Ｋ左右．
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