针对多晶硅表面由于光反射造成的能源损失问题,制绒是现阶段采取的主要方法之一。目前市面上广泛采用的化学酸碱刻蚀制绒方法,其反射率大多在10%以上,为进一步推进太阳能光伏平价可控,降低面板表面反射率仍是现阶段的研究重点。激光作为新型制绒工艺,制备过程简单可控,应用前景广阔,因此亟需继续深入研究并优化现有工艺水平、进一步提高其“光-电”转化效率。具体研究内容如下:利用时域有限差分法(FDTD)对绒面织构主要参数进行仿真优化,为制备出更低反射率绒面织构提供理论指导。建立减反射理论模型,采用时域有限差分法模拟光线在绒面织构间电场的相互作用,探究绒面织构中几何参数的高度对反射率的影响。研究发现,高度对反射率的影响并不完全呈线性关系,且当高度等于光斑直径时,阵列绒面织构反减射性能更优良。开展紫外纳秒激光辐照多晶硅表面研究,探求激光辐照对多晶硅形貌的影响及激光与物质相互作用的机理。制备平行沟槽绒面织构样片,探究工艺参数对沟槽绒面形貌(高度及间距)的影响,并分析形成机理。改进制备绒面织构工艺参数(激光光斑扫描间距30-50μm,激光扫描速度350-700mm/s,频率50-185k Hz),开展圆顶锥形阵列绒面织构和微凹坑绒面织构的制备试验研究并测量其织构几何形貌及反射率。结果表明,当频率50k Hz,间距40μm,速度350mm/s,电流25A,扫描十字形1次,在450-900 nm波长范围内,制备的圆顶锥形阵列绒面织构平均反射率最低可达2.12%;当频率150k Hz,电流25A,扫描次数1次,扫描路径为点阵时制备出微凹坑最低反射率3.32%。通过测量得到数据,开展紫外纳秒激光阵列绒面对“光-电”转化效率影响的研究。通过激光共聚焦显微镜测量得到绒面织构几何参数,根据参数建立模型并仿真得到不同绒面织构的转化效率,通过仿真得到圆顶锥形阵列绒面织构最高转化效率可达19.15%;微凹坑最高转化效率18.87%。该文为进一步提高激光制绒技术产业化的应用提供参考。