钼酸铅晶体表面镀制光学薄膜的工艺研究

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本文从理论和实验两个方面讨论了钼酸铅晶体表面的宽带红外增透膜的设计以及其在真空环境中的制备。 以光学薄膜设计中的隐含规律为基础,采用递推法、矩阵法,分别对单层及多层增透膜的反射率变化建立了理论模型,并在特定的边界条件下进行了求解和理论计算。同时,在膜系设计中,运用反射率图解法以获得满意的光学性能。理论分析与计算结果表明,双层增透膜Ta2O5/SiO2系最优化设计的结果,能够达到宽波段范围内的增透效果。 我们进行了多次薄膜样品的生产实验,并对镀膜产品进行了一系列性能测试。结果表明,与传统的热蒸发镀膜工艺相比,在真空沉积过程牛采用离子束辅助沉积技术,可以大大提高膜层的光学特性及膜层品质。 研究表明,以膜系设计的结果为参照,实际所镀膜层性能优异,在光纤通讯领域具有广阔的应用前景。
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