本文采用磁控溅射技术,在改变磁场非平衡度和闭合状态的条件下在高速钢和单晶硅基体上制备了CrNx镀层。采用SEM和XRD对镀层的微观结构进行了分析；使用显微硬度计测量了镀层的硬度；通过销-盘式摩擦磨损试验机及光学显微镜研究了镀层的摩擦磨损性能；探讨了磁场非平衡度和闭合状态的变化对镀层结构、性能的影响机理。研究结果表明：随非平衡度的增大,CrNx镀层的相结构发生从Cr+Cr2N→Cr+Cr2N+CrN→Cr2N+CrN的转化；在三种闭合状态下,制得的CrNx镀层的物相结构相似且类似于组成闭合状态的单靶制得镀层的物相组成。在磁场非平衡度增大及闭合状态由不闭合→半闭合→完全闭合的变化的过程中,CrNx镀层的组织颗粒都变大,颗粒间的孔洞减少,组织致密化。CrNx镀层的厚度和硬度都随非平衡度的增大而增加,摩擦系数随非平衡度的增大而减小。完全闭合状态下CrNx镀层的沉积速率最快,镀层轴向均匀性也最好。在三种闭合状态下,CrNx镀层的摩擦系数相差不大且都很小。磁场非平衡度和闭合状态的改变对镀层结构和性能的影响,在本质上都是通过改变电子的运动轨迹来实现的。磁场非平衡度增大及闭合状态由不闭合→半闭合→完全闭合的变化都会使磁场对电子的束缚能力增强,增大Ar和N2离化率,扩展等离子体的分布范围。