起落荫罩式等离子体显示屏的制备研究

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目前人们对显示器的要求,不仅停留在显示画质上,而且还希望其重量轻、厚度薄、可弯曲等。为此,在传统的荫罩式等离子体显示器(Shadow Mask PlasmaDisplay Panel,SMPDP)结构基础上提出了一种新型结构--超薄荫罩式等离子体显示器(Ultra-thin SMPDP)以满足消费者新的需求。   与传统SMPDP不同之处是,超薄SMPDP基板玻璃采用超薄D263T玻璃,其厚度仅数十微米,且该超薄玻璃同时充当介质层的作用,扫描电极和寻址电极制作在超薄玻璃外侧。超薄SMPDP不仅继承了传统SMPDP原有优点,还具有厚度薄,重量轻,结构简单、制作工艺简单等特性。由于基板玻璃非常薄,使得封接难度增大,且超薄SMPDP在制作工艺上相对传统SMPDP也有很大的差异,本文对超薄SMPDP制备工艺以及相关特殊工序进行了深入的研究。   本论文基于超薄SMPDP的结构特点,确定了采用封排充一体化工艺制备超薄SMPDP,同时设计了相应的工艺流程。分析了封排充一体化工艺与传统封接工艺的区别及其优势。重点研究了超薄SMPDP显示屏的各个构件如荫罩、基板玻璃、封接框、MgO薄膜等所需的特殊工序,设计了特定的MgO薄膜蒸镀保护装置和封接固定装置。探索、设计了适合超薄SMPDP的预烧结和正式烧结的温度曲线,并对其进行了优化,以保证超薄SMPDP的封接成功率。实验结果表明,经过特殊工序处理后的构件,利用特定的保护和封接固定装置,采用优化后的预烧结和正式烧结温度曲线进行封接,可以使超薄SMPDP封接成功率接近80%。   对研制成功的超薄SMPDP的封接质量进行了分析,比较了有无MgO薄膜、介质层厚度和Xe气比例对超薄SMPDP性能的影响。研究结果表明,蒸镀MgO薄膜、提高Xe气比例有利于提高超薄SMPDP的性能。  
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