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本文通过分别改变磁控溅射时铬靶电流和基体负偏压来研究这两种主要溅射参数对含铬类石墨碳膜沉积速率的影响,系统研究了铬靶电流对含铬类石墨碳膜努氏硬度、划痕结合强度和摩擦磨损性能的影响规律,应用Raman光谱以及四点探针法(FPM)测定了含铬类石墨碳膜中C-C键合结构。研究了铬靶电流对含铬类石墨碳膜组织结构的影响,观察了不同铬靶电流下含铬类石墨碳膜表面形貌的变化。结果表明:本文制备的含铬类石墨碳膜的C-C键合结构以sp2为主。分析表明不同铬靶电流下制备的碳膜都为非晶镀层,铬的加入不