Zr702合金因其特殊的性能在核工业和化学工业领域有着较为广泛的应用价值，但由于其特殊服役环境的影响，要求其表面要有较好的耐蚀性。因此，本文采用微弧氧化技术，在Zr702合金表面制备陶瓷膜层，研究了不同电解液体系下膜层的耐蚀性能，分析了工艺参数对膜层的生长特性、微观形貌、相结构和耐蚀性等的影响，讨论了不同电解液体系及电参数下膜层的耐蚀机理。研究表明Zr702合金在硅酸盐-磷酸盐、磷酸盐以及锆盐三种电解液中均可形成性能较为良好的微弧氧化陶瓷层，在硅酸盐-磷酸盐、磷酸盐和锆盐三种电解液体系所形成的微弧氧化膜层均可提高Zr702合金的耐蚀性，其中以磷酸盐耐蚀效果最好。分析表明，硅酸盐-磷酸盐和锆盐电解液中形成的膜层表面较为疏松、粗糙，在磷酸盐中形成的膜层表面致密、平整，腐蚀通道较少，耐蚀性较好；同时，硅酸盐-磷酸盐膜层主要的相结构为单斜氧化锆和四方氧化锆，锆盐和磷酸盐膜层则以耐蚀性较好的单斜氧化锆相为主。不同体系下电参数优化结果表明：在硅酸盐-磷酸盐电解液中电压为460V时所形成微弧氧化膜层耐蚀性最好，磷酸盐电解液中480V所形成微弧氧化膜层耐蚀性最好，在锆盐电解液中440V所得微弧氧化膜层的耐蚀性最好。其中在这三种体系中以磷酸盐在480V所形成陶瓷膜层性能最好。