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采用射频磁控溅射法，制备了一系列不同Mo含量的TiMoN、TiAlMoN薄膜，不同Al含量的TiAlN、MoAlN薄膜及不同Si含量的TiSiN、MoTiSiN薄膜。研究了各薄膜微观结构、力学及摩擦磨损性能。TiMoN薄膜为fcc结构。Mo含量小于68.37%时，薄膜主要为Mo在TiN中的置换固溶体；当Mo含量大于68.37%时，薄膜主要为Ti在Mo2N中的置换固溶体。薄膜显微硬度随Mo含量的增加显著升高，最高为36.37GPa。薄膜的摩擦系数随Mo含量的升高而降低，并最终稳定在0.4左右。