高精度逐场调平技术研究

来源 :中国科学院光电技术研究所 | 被引量 : 0次 | 上传用户:jeff2047
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提高光学光刻分辨力是现代光学光刻技术研究的核心内容,而提高光刻分辨力的主要手段是进一步增大光刻物镜的数值孔和进一步缩短曝光波长,其后果必然是焦深相应缩短.寻求充分利用有限焦深并保证全视场有高调焦精度的逐场调平技术已成为近年来高分辨力光刻技术的主要研究课题之一.该文提出一种视频图象逐场调平调焦方法,介绍其多点测量的原理并推导设计公式,进行误差分析讨论逐场调平的实现条件,研究逐场调平运动量控制算法,讨论投影光刻机的坐标系并建立逐场调平时的套刻步进模型.
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