黄瓜（Cucumis sativus L.），是内销和出口的重要蔬菜之一，在我国乃至世界范围广泛栽培种植。在生产过程中黄瓜常遭受霜霉病的侵害，年产损失达16%~34%。目前，生产上常用的农业防治、生态防治、化学防治等方法虽可控制病情的发展，但存在或周期长、或见效慢、或农药残留等问题。要想达到黄瓜的无公害生产，需研究一条更加合理有效地抗病防病途径，而由过敏性反应引发的抗性机制是目前最安全、最理想的抗病途径。本试验以黄瓜感病自交系IL112和抗病自交系HNAU-0023为试验材料，试图通过研究黄瓜过敏性反应的产生，H2O2和胼胝质的累积及含量变化和抗性相关基因表达，探讨黄瓜霜霉病过敏性反应机制。研究结果如下：1.病情指数调查结果显示，IL112感染霜霉病后，病斑迅速扩大，形成了弥散型病斑；HNAU-0023前期病斑较为明显，中后期逐渐形成了坏死病斑，坏死病斑的形成阻碍了病情的进一步发展。2.电镜显微结构观察结果显示，自交系IL112的受浸染细胞壁没有胼胝质的累积，细胞内出现霜霉病菌；而自交系HNAU-0023的受侵染细胞壁有大量的胼胝质累积，阻碍了霜霉病菌进入细胞。3. DNA凝胶电泳结果显示，接种霜霉病菌7dpi，自交系IL112的基因组DNA片段比较完整；自交系HNAU-0023的基因组DNA片段明显降解，显示了受侵染细胞发生了程序性细胞死亡，进一步证明HNAU-0023遭受霜霉病侵染后发生了过敏性反应。4.细胞显微结构观察结果表明，霜霉病胁迫黄瓜叶片，抗病自交系HNAU-0023的H2O2含量（48~120hpi）、胼胝质含量（24~72hpi）和H2O2、胼胝质细胞累积数（过敏性反应细胞个数）占侵染细胞数百分比均高于感病自交系IL112，且增幅较快，表明黄瓜过敏性反应的产生伴随着H2O2和胼胝质的累积。5.霜霉病胁迫抗病自交系HNAU-0023，在一定时间段黄瓜叶片H2O2含量（48~120hpi）和胼胝质含量（24~72hpi）均有所升高，同时施用H2O2抑制剂DPI/DMTU（48~96hpi）和胼胝质抑制剂DDG（0~72hpi）可在相应的时间段内有效抑制H2O2和胼胝质含量的累积，且DPI/DMTU/DDG处理的黄瓜叶片病情指数均高于清水对照，并未出现类似清水对照的过敏性病斑，互补试验进一步证实了H2O2和胼胝质参与了过敏性反应。6.以EF1-α和UBI-ep为内标基因，采用实时荧光定量PCR，探讨黄瓜抗霜霉过程与相关抗性基因的关系。相较于感病自交系IL112，抗病自交系HNAU-0023防御基因PR-1，MT，PIP，Danj和CAT，转录因子TR，WRKY60，TF和WRKY30，信号转导因子MAPK1表现为上调表达，表明这些基因在一定时间段可能参与了黄瓜过敏性抗病反应，GNRF可能未参与黄瓜过敏性抗病反应。喷施H2O2抑制剂DPI/DMTU和胼胝质抑制剂DDG6h后，接种霜霉病菌，相较于清水对照，抗病自交系HNAU-0023的防御基因PR-1，PIP和MT基因，转录因子TR，TF，WRKY60，WARKY30和MYC基因，信号转导因子RBOH和MAPK1表现为下调表达，说明抑制剂DPI/DMTU/DDG可有效的抑制前期原本高效上调表达抗性基因下调表达，证实了这些抗性基因参与了过敏性抗病反应，可能是黄瓜抗霜霉病过程中的关键调控基因。