不断发展的天文光学和空间光学技术对光学成像的要求越来越高，光学成像系统的尺寸正在向着大口径方向发展。碳化硅以其低密度、高比刚度、良好的导热性能等多种优点，逐渐成为了地基、天基望远镜反射镜的首选材料。由于碳化硅材料具有硬度高，不同的制备方法形成的镜坯各有其特点，对碳化硅镜体进行抛光后，其镜面粗糙度可以满足大部分工程的要求[1]。对可见光领域有特殊要求的天文光学和空间光学镜面，需进一步降低镜面粗糙度值。因此需要通过进行表面改性来提高表面的光学质量。本文主要进行了以下内容的探索和研究:　　1.烧结技术制备的碳化硅的特点、抛光的机理以及镜面检测的原理分析。　　2.碳化硅的数控研磨与抛光工艺技术。　　本课题采取的技术路线是:通过分别进行多组小口径碳化硅试片的改性和抛光实验，并对实验结果进行分析和探索，来研究碳化硅PVD改性工艺技术，并将实验结论运用于一块D520mm的大口径凹非球面碳化硅反射镜面的磨制与PVD改性后的抛光，最终要求获得光学性能良好的改性层和特性优良的光学反射镜面。