BiVO₄禁带宽度为2.4eV,无毒,催化分解水和有机物的能力强,太阳光利用率较高,是一种理想的可见光驱动型半导体催化剂。Bi₂WO₆性质稳定,无光腐蚀现象,禁带宽度约为2.7eV,能被紫外光和可见光激发,它的开发和使用,有利于提高太阳光利用率。本文通过液相沉淀法制备了可见光催化活性良好的单斜白钨矿相BiVO₄,利用液相沉淀法、水热法合成了正交晶系多面体状Bi₂WO₆，正交晶系球形Bi₂WO₆，并在此基础上制备了光催化剂硅藻土@BiVO₄和硅藻土@Bi₂WO₆。首先,以Bi（NO₃）₃?5H₂O和NH₄VO₃为原料,采用液相沉淀法合成了单斜白钨矿相BiVO₄,用XRD、 SEM、 IR等测试手段考察了合成体系中溶液pH、反应物初始浓度、反应温度、反应时间等因素对产品结构和形貌的影响,得出合成BiVO₄的最佳反应条件。并以最佳反应条件下合成的BiVO₄为光催化剂,研究其降解甲氧滴滴涕（MXC）的最佳反应条件。其次,通过液相沉淀法、水热法等方法合成了正交晶系多面体状Bi₂WO₆和正交晶系球形Bi₂WO₆,利用XRD、 EDS、 SEM、 IR、 DRS、 BET等测试手段对其物相和形貌进行表征,并考察其降解甲氧滴滴涕（MXC）的最佳反应条件。对比了相同条件下,多面体状Bi₂WO₆和球形Bi₂WO₆的可见光催化活性。最后,在液相沉淀法制备单斜白钨矿相BiVO₄和多面体状Bi₂WO₆的基础上,以酸洗硅藻土为硅源,合成了硅藻土@BiVO₄和硅藻土@Bi_WO₆6,利用XRD、 EDS、 SEM、 IR、 DRS、 BET等测试手段对其物相和形貌进行了分析表征。并以甲氧滴滴涕（MXC）的可见光催化降解为模型反应,研究了其可见光催化活性,通过气质联用（GC-MS）测定其降解产物,推出降解反应机理。