【摘 要】
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该文将围绕这些问题分别从理论、制备工艺和测试方法上进行探讨在理论上,研究了射频磁控溅射法制备薄膜均匀性的问题,基于溅射产额和出射角分布建立靶原子散射模型,考虑到溅
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该文将围绕这些问题分别从理论、制备工艺和测试方法上进行探讨在理论上,研究了射频磁控溅射法制备薄膜均匀性的问题,基于溅射产额和出射角分布建立靶原子散射模型,考虑到溅射设备系统工艺条件情况,对溅射粒子的运输过程进行模拟,得到磁控溅射设备制备薄膜均匀性分布情况.测试方面,介绍了椭圆偏振仪测试薄膜光学参数的原理,对薄膜光学参数的两种常用的计算方法进行了讨论.比较了采用遗传算法和采用蒙特卡罗方法来计算椭偏仪测试结果的各自特点.在腔镜高反膜系的研究中,提出了以遗传算法和模拟退火算法相结合的整体退火遗传算法(GASA)进行膜系设计的新方法.
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