随着军事技术和光电对抗技术的发展,未来战场的电磁对抗环境将越来越严峻。激光探测系统对抗复杂电磁环境的需求也逐渐迫切。为了解决这一问题。本文根据特定的激光工作波段,对镀金属网栅和ITO透明导电膜两种整流罩的电磁屏蔽效能、透光性及成像性进行研究,来实现激光探测系统抗复杂电磁环境干扰的目的。本文采用了金属网栅和ITO透明导电膜滤波技术,完成了激光探测系统光学整流罩抗电磁波屏蔽、透光性、成像性实验。用等效电路模型理论分析了金属网栅的周期和宽度等结构参数对电磁波屏蔽作用的影响,得出了减小网栅的周期或增加网栅的线宽可以提高电磁屏蔽效能的结论,光学系统的透过率则与其相反。网栅的周期越大,线宽越小则透波性越好;用分层媒质理论分析了ITO透明导电膜的介质电导率对电磁波屏蔽效能的影响,得出了减小电导率可以提高ITO透明导电膜屏蔽效能的结论,光学系统透过率则与膜层的厚度成反比。采用激光直写的方法制备了周期为:400μm,线宽为:9μm金属网栅整流罩;采用射频磁控溅射法制备了方块电阻分别为:10Ω、5ΩITO透明导电膜整流罩。采用对比试验方法,完成了金属网栅整流罩和ITO透明导电膜整流罩电磁屏蔽效能、透光性、成像性的测试。通过金属网栅整流罩和ITO透明导电膜整流罩的理论及测试数据分析可以得出,金属网栅和ITO整流罩在满足同样光学透过率的前提下,综合成本及制作工艺等方面考虑,从应用角度出发,ITO透明导电膜整流罩综合性能优于金属网栅整流罩。